Морфология Ti, V покрытий для тыльных контактов биосенсоров

Abstract

Целью работы являлось исследование влияния наличие тыльного проводящего слоя полученного магнетронным распылением Ti, а так же параметров процесса нанесения и последующего отжига на свойства топографии и структуру поверхности пленок оксида ванадия VOx, осажденных методом реактивного магнетронного распыления V мишени в Ar/O2 смеси газов. The aim of this work was to study the effect of the presence of a rear conducting layer obtained by magnetron sputtering of Ti, as well as the parameters of the deposition process and subsequent annealing, on the topographic properties and surface structure of vanadium oxide VOx films deposited by reactive magnetron sputtering of a V-target in an Ar/O2 gas mixture.