Исследование структур покрытия на основе Mo/кремниевой подложки для тонкопленочных ИК-излучателей

Abstract

В работе представлены исследования структур покрытия на основе Мо/кремниевой подложки полученных комбинацией ионно-ассистированного и магнетронного осаждения в различных режимах. Показано, что поверхность покрытия имеет структурный состав и проявляет радиационно-стимулированную диффузию молибдена в глубь подложки с концентрацией до 1 ат%, на глубину до 500 нм. The work studies the structure of a coating based on Mo/silicon substrate radiation using a combination of ion-assisted and magnetron deposition in various modes. It is shown that the surface of the coating has a structural composition and demonstrates radiation-stimulated diffusion of molybdenum into the depth of the substrate with a concentration of up to 1 at%, to a depth of up to 500 nm.