Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
https://rep.bsatu.by/handle/doc/12890Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Tashlykov, I. S. | - |
| dc.contributor.author | Baraishuk, Sergey Mikhailovich | - |
| dc.contributor.author | Mikhalkovich, O. M. | - |
| dc.contributor.author | Antonovich, I. P. | - |
| dc.contributor.author | Ташлыков, Игорь Серафимович | - |
| dc.contributor.author | Барайшук, Сергей Михайлович | - |
| dc.contributor.author | Михалкович, Олег Михайлович | - |
| dc.contributor.author | Антонович, И. П. | - |
| dc.date.accessioned | 2021-05-24T10:29:47Z | - |
| dc.date.available | 2021-05-24T10:29:47Z | - |
| dc.date.issued | 2007 | - |
| dc.identifier.citation | Structure and Damage of Silicon Modified by Means of Thin Films Ion Assisted Deposition = Модификация структуры и повреждения кремния с помощью ионного осаждения / I. S. Tashlykov [и др.] // NEET'2007. New Electrical and Electronic Technologies and their Industrial Implementation : V International Conference, Zakopane, 12-15 June 2007. - Lublin : Lublin University of Technology, 2007. - Р. 79. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://rep.bsatu.by/handle/doc/12890 | - |
| dc.language.iso | en | ru_RU |
| dc.publisher | Lublin University of Technology | ru_RU |
| dc.subject | ионно-ассистированное осаждение | ru_RU |
| dc.subject | кремний | ru_RU |
| dc.subject | модифицирование поверхностей | ru_RU |
| dc.subject | ion-assisted deposition | ru_RU |
| dc.subject | silicon | ru_RU |
| dc.subject | surface modification | ru_RU |
| dc.title | Structure and Damage of Silicon Modified by Means of Thin Films Ion Assisted Deposition | ru_RU |
| dc.type | Article | ru_RU |
| dc.identifier.udc | 544.022 | - |
| dc.relation.book | NEET'2007. New Electrical and Electronic Technologies and their Industrial Implementation : V International Conference, Zakopane, 12-15 June 2007 | ru_RU |
| Располагается в коллекциях: | 2007 | |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| Structure-and-Damage-of-Silicon-Modified-by-Means-of-Thin-Films-Ion-Assisted-Deposition.pdf | Р. 79 | 583,68 kB | Adobe PDF |  Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.